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详情描述
设备用途 本设备是专为高等院校科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火熔化物质成分测量分析而研制的专用理想设备。为了不影响设备正常使用寿命，请不要过快升降温。
请 不要往管内通入超过0.02MPa的气体压力。本设备使用一段时间后，炉膛会出现微小裂纹，属于正常现象，不会影响使用，可向业务人员免费索取氧化铝涂层修补剂。更多产品请登录：
